Kagami Memorial Research Institute for Materials Science and Technology早稲田大学 各務記念材料技術研究所

Facility

研究設備

Space for Joint Usage/Research Center

共同利用・共同研究拠点のためのスペース

「共同利用・共同研究拠点のためのスペース」は学外の方を対象に、様々な分野の専門性の高い装置を共用設備として提供するもので、現在は以下6つのスペースがあります。共同利用を希望される方は共同利用についてをご確認いただき、事務局までお問い合わせください。

結晶物性解析室

装置名 仕様
X線ラウエ装置

動画(YouTube)

X線発生装置(IPX-YGR)
X線源:封入管型 W管球 1.5 kW
安全機構:フェールセーフ機構完備、警告灯、正面鉄製パネル使用
イメージイングプレート利用背面反射ラウエカメラ(IP-RASCO-BL)
高感度型万能IP読み取り装置(RAXIA-Di)
ゴニオメータ
結晶切断装置

動画(YouTube)

セラミックス用ブレード使用
ゴニオメータ装着可
三軸可動:テーブル左右(自動)、前後(手動)、主軸上下(手動)
主軸回転数:3000, 3600 r/min
安全装置:扉開閉インターロック
冷却液使用
メスバウアー分光装置 Feを含む化合物,または57Feを微量置換した化合物が対象で,4.2〜850 Kの温度範囲で測定が可能。925 MBq 57Co/Rh γ線源。
粉末では50 mg程度の試料,単結晶では厚さ40-80 μmの試料が必要。
液体ヘリウムクライオスタット,冷凍機,液体窒素クライオスタット,高温用加熱セル

 

 

高強度CNT繊維の創製と強度発現メカニズムの解明

装置名 仕様
各種繊維引き出し装置 回転数:0~1000 r/min
速度:10~2000 mm/min
移動量:0~600 mm
湿式CNT繊維紡績装置 ノズル径:150 μm,450 μm(取替式)
押出速度:0.25~20.0 rpm
制御温度:室温~60 ℃

SEM内小型引張試験機(その場観察装置) 容量:2 kN,精度:±50 mN
製造元:DESEN社(引き出し装置)・KEIRIN社(コントローラー)
製造元:日立ハイテク
型番:SU3500
加圧電圧:1~30 kV
倍率:~× 300,000

 

 

パワー半導体薄膜表面形成および結晶構造解析室

装置名 仕様
多機能薄膜材料評価X線回析装置 逆格子プロット(回折点の2次元情報)を基本とし、単結晶やエピタキシャル薄膜の評価に有効。
表面安定化成膜装置 高真空での表面窒化処理、表面シリコン処理、RHEED観測が可能。

 

 

有機-無機ハイブリッド材料

装置名 仕様
X線回析分析装置1 製造会社:株式会社 リガク
名称:RINT 2500
測定条件
線源:Cu
管電圧:40 kV
管電流:30 mA
X線回析分析装置2 製造会社:株式会社 リガク
名称:RINT-Ultima
測定条件
線源:Fe
管電圧:40kV
管電流:30 mA
ガスクロマトグラフィー 製造会社:株式会社 島津製作所
名称:GC-2014
検出器:熱伝導度検出器
紫外可視分光光度計 製造会社:日本分光 株式会社
名称:紫外可視分光光度計V-750
光学系:ダブルビーム
波長範囲:187-900 nm
粒子径分布(粒度分布)測定装置 製造会社:マイクロトラック・ベル
名称:NANOTRAC WAVE
測定原理:動的光散乱式
計算方法:周波数解析(FFT)
測定範囲:0.8-6500 nm
光学顕微鏡 製造会社:オリンパス 株式会社(株式会社 エビデント)
名称:顕微鏡BX53
サイズ排除クロマトグラフィー(GPC/SEC)システム 製造会社:日本分光 株式会社
送水ポンプ:日本分光PU-4180型、HPLC/RHPLC,UHPLC用
検出器:日本分光RI-4130型、示差屈折率検出器
▼有機系カラム(THF)
KF-804L(Shodex)
理論段数(TP/本):18,000以上
粒径(μm):7
サイズ(mm)、内径×長さ:8.0×300
対象分子量範囲(ポリスチレン):100-300,000
排除限界分子量(ポリスチレン):400,000
最大圧力(MPa/カラム):3.5
常用流量(mL/min):0.5-1.0
最大流量(mL/min):2.0
推奨温度(℃):40
上限温度(℃):60
▼水系カラム
SB-804 HQ(Shodex)
理論段数(TP/本):16,000以上
粒径(μm):10
サイズ(mm)、内径×長さ:8.0×300
対象分子量範囲(プルラン):5,000-400,000
排除限界分子量(プルラン):1,000,000
最大圧力(MPa/カラム):3.0
最大流量(mL/min):1.2
上限温度(℃):70
使用可能pH:3-10

 

 

液晶薄膜の物性評価実験室

装置名 仕様
写真準備中 薄膜用偏光顕微鏡(自作)

※メンテナンス中

照明:637 nm/120 mW
観察領域:5 mm平方
倍率:20~100倍
Δn: > 0.01
Brewster角顕微鏡(自作) 照明:532 nm/ 2 W
観察領域:5 mm平方
観察対象:単分子膜
倍率:20~50倍
空間分解能:10 mm
薄膜の厚さ測定装置 白色照明
観察対象:球面形状の薄膜
対象物のサイズ:1 ~10 mmφ
厚さ:100 nm ~ 10 mm
精度:±20 nm
液晶配向制御用ラビングマシーン EHC株式会社,RM-50
サイズ:最大 50x50mm試料に対応
移動速度: MAX 25mm/sec
前・後進の切替はトグルスイッチによる操作
固定法:真空ポンプによる吸着固定
ロール:幅100mm,φ48mm, MAX 3000 rpm. 回転方向・回転数は個別SWで切替
液晶用温度制御装置 INSTEC社TS-62
最大試料サイズ:38 mm × 50 mm
温度可変領域:-30℃~90℃
温度分解能:0.01℃
最大温度制御速度:±50°C/min
最小対物レンズ作動距離:3.6 mm

 

 

オートモーティブマテリアル研究室

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WASEDA University

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