「共同利用・共同研究拠点のためのスペース」は学外の方を対象に、様々な分野の専門性の高い装置を共用設備として提供するもので、現在は以下6つのスペースがあります。共同利用を希望される方は共同利用についてをご確認いただき、事務局までお問い合わせください。
| 装置名 | 仕様 | |
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X線ラウエ装置 | X線発生装置(IPX-YGR) X線源：封入管型 W管球 1.5 kW 安全機構：フェールセーフ機構完備、警告灯、正面鉄製パネル使用 イメージイングプレート利用背面反射ラウエカメラ(IP-RASCO-BL) 高感度型万能IP読み取り装置(RAXIA-Di) ゴニオメータ |
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結晶切断装置 | セラミックス用ブレード使用 ゴニオメータ装着可 三軸可動：テーブル左右（自動）、前後（手動）、主軸上下（手動） 主軸回転数：3000, 3600 r/min 安全装置：扉開閉インターロック 冷却液使用 |
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メスバウアー分光装置 | Feを含む化合物，または57Feを微量置換した化合物が対象で，4.2〜850 Kの温度範囲で測定が可能。925 MBq 57Co/Rh γ線源。 粉末では50 mg程度の試料，単結晶では厚さ40-80 μmの試料が必要。 液体ヘリウムクライオスタット，冷凍機，液体窒素クライオスタット，高温用加熱セル |
| 装置名 | 仕様 | |
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各種繊維引き出し装置 | 回転数：0～1000 r/min 速度：10～2000 mm/min 移動量：0～600 mm |
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湿式CNT繊維紡績装置 | ノズル径：150 μm，450 μm（取替式） 押出速度：0.25～20.0 rpm 制御温度：室温～60 ℃ |
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SEM内小型引張試験機（その場観察装置） | 容量：2 kN，精度：±50 mN 製造元：DESEN社（引き出し装置）・KEIRIN社（コントローラー） 製造元：日立ハイテク 型番：SU3500 加圧電圧：1～30 kV 倍率：～× 300,000 |
| 装置名 | 仕様 | |
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多機能薄膜材料評価X線回析装置 | 逆格子プロット（回折点の2次元情報）を基本とし、単結晶やエピタキシャル薄膜の評価に有効。 |
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表面安定化成膜装置 | 高真空での表面窒化処理、表面シリコン処理、RHEED観測が可能。 |
| 装置名 | 仕様 | |
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X線回析分析装置1 | 製造会社：株式会社 リガク 名称：RINT 2500 測定条件 線源：Cu 管電圧：40 kV 管電流：30 mA |
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X線回析分析装置2 | 製造会社：株式会社 リガク 名称：RINT-Ultima 測定条件 線源：Fe 管電圧：40kV 管電流：30 mA |
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ガスクロマトグラフィー | 製造会社：株式会社 島津製作所 名称：GC-2014 検出器：熱伝導度検出器 |
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紫外可視分光光度計 | 製造会社：日本分光 株式会社 名称：紫外可視分光光度計V-750 光学系：ダブルビーム 波長範囲：187-900 nm |
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粒子径分布（粒度分布）測定装置 | 製造会社：マイクロトラック・ベル 名称：NANOTRAC WAVE 測定原理：動的光散乱式 計算方法：周波数解析（FFT） 測定範囲：0.8-6500 nm |
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光学顕微鏡 | 製造会社：オリンパス 株式会社（株式会社 エビデント） 名称：顕微鏡BX53 |
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サイズ排除クロマトグラフィー（GPC/SEC）システム | 製造会社：日本分光 株式会社 送水ポンプ:日本分光PU-4180型、HPLC/RHPLC,UHPLC用 検出器:日本分光RI-4130型、示差屈折率検出器 ▼有機系カラム(THF) KF-804L(Shodex) 理論段数(TP/本):18,000以上 粒径(μm):7 サイズ(mm)、内径×長さ:8.0×300 対象分子量範囲(ポリスチレン):100-300,000 排除限界分子量(ポリスチレン):400,000 最大圧力(MPa/カラム):3.5 常用流量(mL/min):0.5-1.0 最大流量(mL/min):2.0 推奨温度(℃):40 上限温度(℃):60 ▼水系カラム SB-804 HQ(Shodex) 理論段数(TP/本):16,000以上 粒径(μm):10 サイズ(mm)、内径×長さ:8.0×300 対象分子量範囲(プルラン):5,000-400,000 排除限界分子量(プルラン):1,000,000 最大圧力(MPa/カラム):3.0 最大流量(mL/min):1.2 上限温度(℃):70 使用可能pH:3-10 |
| 装置名 | 仕様 | |
|---|---|---|
| 写真準備中 | 薄膜用偏光顕微鏡（自作）
※メンテナンス中 |
照明：637 nm/120 mW 観察領域：5 mm平方 倍率：20～100倍 Δn: > 0.01 |
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Brewster角顕微鏡（自作） | 照明：532 nm/ 2 W 観察領域：5 mm平方 観察対象：単分子膜 倍率：20～50倍 空間分解能：10 mm |
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薄膜の厚さ測定装置 | 白色照明 観察対象：球面形状の薄膜 対象物のサイズ：1 ～10 mmφ 厚さ：100 nm ~ 10 mm 精度：±20 nm |
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液晶配向制御用ラビングマシーン | EHC株式会社，RM-50 サイズ：最大 50x50mm試料に対応 移動速度: MAX 25mm／sec 前・後進の切替はトグルスイッチによる操作 固定法：真空ポンプによる吸着固定 ロール：幅100mm，φ48mm, MAX 3000 rpm. 回転方向・回転数は個別ＳＷで切替 |
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液晶用温度制御装置 | INSTEC社TS-62 最大試料サイズ：38 mm × 50 mm 温度可変領域：－30℃～90℃ 温度分解能：0.01℃ 最大温度制御速度：±50°C/min 最小対物レンズ作動距離：3.6 mm |
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