演題：「半導体プロセスの研究動向と新規なレジスト除去技術の開発」
日時：2025年9月8日(月) 16:00-17:40
会場：早稲田大学 西早稲田キャンパス55S-510室
講師：堀邊 英夫 (大阪公立大学・物質化学生命系専攻・教授)
対象：学部生、大学院生、教職員、学外者、一般
参加方法：入場無料 直接会場へお越しください
主催：先進理工学部 応用化学科
問合せ：早稲田大学 理工センター 総務課
TEL：03-5286-3000
演題：「半導体プロセスの研究動向と新規なレジスト除去技術の開発」
日時：2025年9月8日(月) 16:00-17:40
会場：早稲田大学 西早稲田キャンパス55S-510室
講師：堀邊 英夫 (大阪公立大学・物質化学生命系専攻・教授)
対象：学部生、大学院生、教職員、学外者、一般
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主催：先進理工学部 応用化学科
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