「半導体プロセスの研究動向と新規なレジスト除去技術の開発」（2025/9/8）

演題：「半導体プロセスの研究動向と新規なレジスト除去技術の開発」

日時：2025年9月8日(月) 16:00-17:40

会場：早稲田大学　西早稲田キャンパス55S-510室

講師：堀邊　英夫　(大阪公立大学・物質化学生命系専攻・教授)

対象：学部生、大学院生、教職員、学外者、一般

参加方法：入場無料　直接会場へお越しください

主催：先進理工学部 応用化学科

問合せ：早稲田大学 理工センター 総務課

TEL：03-5286-3000