演題：二ホウ化ジルコニウム薄膜上のシリセンの形成
日時：2016年12月22日 (木) 10:30～12:00
会場：早稲田大学 西早稲田キャンパス 63号館 4階 ゼミ室（22室）
講師：高村 由起子(北陸先端科学技術大学院大学・准教授)
対象：学部生、大学院生、教職員、学外者、一般
参加方法：入場無料、直接会場へ
主催：先進理工学研究科 電気・情報生命専攻
問合せ：早稲田大学 理工センター 総務課
TEL：03-5286-3000
THU
2016
早稲田大学 西早稲田キャンパス 63号館 4階 ゼミ室（22室)
Mon, 07 Nov 2016
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