法学部共催シンポジウム
「デザイン保護制度の現状と未来」
- 日 程：2018年03月10日（土）13時30分−
- 会 場：早稲田大学 3号館4階 405教室
- 主 催：早稲田大学知的財産法制研究所（RCLIP）
- 共 催：早稲田大学法学部
- 後 援：早稲田大学総合研究機構
- 参加費：シンポジウムは無料 （ただし、終了後の懇親会（交流会）は4,000円）
お問い合わせ＆お申込み → 早稲田大学知的財産法制研究所（RCLIP）
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