- 研究番号：
- 研究分野：science
- 研究種別：研究重点教員研究
- 研究期間：2013年04月〜2018年03月
代表研究者
鷲尾 方一 教授
WASHIO Masakazu Professor
先進理工学部 応用物理学科
Department of Applied Physics
研究概要
我々は加速器から得られる高品質電子ビームを用いて半導体リソグラフィーや、産業に資する新材料に関する研究を行っている。パーソナルコンピュータや携帯端末の性能を決定している集積回路は、基板（ウェハ）に微細な回路パターンを転写するリソグラフィー技術により作製されている。本研究において対象としている次世代リソグラフィーに利用される光源として、EUV（Extreme Ultra Violet）光があるが、この光源開発について民間企業との共同研究を実施してきた。現在、大強度のEUV光源や加工技術の確立が急がれるなかで、我々は特に、SnドロプレットにCO２レーザーを集光してEUV光を発生（LPP法）させる際のレーザー集光プロファイルの計測について研究を続けてきた。 一方、我々の持つ物質と放射線の相互作用に関する詳細な知見をもとに、放射線施設などの多様な場所において使用可能な高い耐放射線性を持つゴム等の素材開発にも取り組んでいる。以上のような、放射線を利用する多岐にわたる研究開発をこのプロジェクトにおいて推進し、その成果は実際の産業に応用され始めている。
