Kagami Memorial Research Institute for Materials Science and Technology早稲田大学 各務記念材料技術研究所

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大木義路教授ならびに黒田一幸教授が2019年度「大隈学術記念賞」を受賞

大隈学術記念賞
本学では創立者大隈重信を記念し、学術の振興をはかる目的で大隈記念学術褒賞制度を設けております。
「大隈学術記念賞」は研究上の業績が抜群であり、学術の水準の向上に寄与するところ極めて顕著とされた本学の専任教員に対して贈られるもので、これまで61名が授与されております。
2019年度の大隈学術記念賞として当研究所所長の大木義路教授ならびに元所長の黒田一幸教授が以下の研究題目により受賞されました。

大木義路教授
研究題目:誘電・絶縁材料の電気および光物性の解明とその応用

黒田一幸教授
研究題目:シリカメソ多孔体の発見と合成化学的展開

10月29日、大隈会館にて授与式が執り行われ、田中愛治総長より正賞と副賞が授与されました。
田中総長の祝辞の後、大木教授のご挨拶では恩師であられる矢作吉之助先生の、また、黒田教授のご挨拶でも恩師であられる加藤忠蔵先生の回想が述べられ、それぞれのご専門分野が連綿と受け継がれ、それを発展させた成果がご紹介されました。そして共同研究をはじめとする関係の先生方、研究室のメンバー、ご家族に対しての感謝の意が表されました。

これからもより一層のご活躍を祈念申し上げます。

大木教授

 

黒田教授

 

田中総長との記念撮影

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