Kagami Memorial Research Institute for Materials Science and Technology早稲田大学 各務記念材料技術研究所

メーカー/型番

HITACHI（日立）/S-5500

装置概要

高輝度で高い干渉性の電子線が得られるフィールドエミッション電子銃（FEG）を搭載した高分解能走査電子顕微鏡。（コールドタイプ（冷陰極形））
試料に収束した高輝度で高い干渉性の電子線を照射し、放出された二次電子を検出することで表面の高分解能形態観察を行う。
本装置は二次電子像、透過電子観察が可能である。
in-lens方式のため試料サイズに制限があるが非常に分解能が高く、数nm程度のメソポーラスシリカの孔も観察できる。（試料サイズ3mm×3mm　厚さ1mm以下）
◆オプションとしてエネルギー分散形X線分析装置 （EDS）を装備。
微小部の元素分析、元素マッピングを得ることができる。（元素範囲B～Uまで）

主な仕様

二次電子像分解能　 （高加速電圧30 kV） 0.4 nm
（低加速電圧1 kV） 　1.6 nm
加速電圧　　　　　0.5～30 kV
倍率　　　　　　　×60～×2,000,000

設置場所

42-1号館001B室

利用料金

1時間　1500円

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