- 研究番号：16P56
- 研究分野：science
- 研究種別：プロジェクト研究
- 研究期間：2016年10月〜2019年09月
代表研究者
野田 優 教授
NODA Suguru Professor
先進理工学部 応用化学科
Applied Chemistry
URL：http://www.f.waseda.jp/noda/
研究概要
ナノテクノロジーは広範な技術革新が可能と十数年来期待され、素晴らしい材料・デバイスが実験室規模で沢山生み出されてきた。反面、実用は未だ限定的とされ、実用的な規模とコストでの製造が本格的実用化の鍵となる。化学工学は生産の工学だが、ナノ材料に関しては微細構造制御とスケールアップの両立に必ずしも成功していない。本プロジェクト研究では、その両立を目指しプロセス開発を中心に推進する。具体的には、カーボンナノチューブ(CNT)を対象に、蓄電デバイス、薄膜デバイス、電子デバイスに向け、流動層による長尺CNTの大量合成、浮遊触媒法による高結晶性CNTの連続合成、担持触媒法によるデバイス基板上CNT合成と、カスタム合成法を開発する。さらに多孔質シリコンの急速蒸着と蓄電応用、大粒径多結晶シリコン膜の急速蒸着と太陽電池応用など、シリコン材料・製膜技術も開発する。合成と応用を同時に進めることで「役立つものを実用的につくる」とともに、産学協働により技術開発と移転をシームレスに推進する。
