- 研究番号：16C02
- 研究分野：bio
- 研究種別：奨励研究
- 研究期間：2016年04月〜2017年03月
代表研究者
新井 大祐 理工研が募集する次席研究員
ARAI Daisuke Researcher
理工学研究所 中尾 洋一研究室
Research Institute for Science and Engineering
研究概要
DNAやヒストンの化学修飾によるゲノム制御機構、またその研究分野のことをエピジェネティクスと呼ぶ。エピジェネティックな情報は細胞が置かれた時期や 環境により可塑的に変化し、かつ細胞分裂を越えて長期にわたり維持されるという安定性も持っており、遺伝子発現のパターンやゲノム安定性などの厳密なコン トロールに寄与している。エピジェネティクス研究を進める上で、ヒストン修飾を特異的に制御しうる小分子化合物は強力な研究ツールとなりうる。ヒストン脱 アセチル化酵素（HDAC）阻害剤TSAをはじめ、これまでにいくつかのヒストン修飾・脱修飾酵素阻害剤が開発されてきたが、未だに特異的な制御剤が開発 されていない修飾も多く、新たなヒストン修飾制御剤の開発はエピジェネティクス研究に大きく貢献すると期待される。
当研究室では、培養細胞に対する免疫染色スクリーニングを行い、独自に保有する海洋生物抽出物ライブラリーからヒストン修飾制御化合物の探索を行ってき た。これにより、培養細胞のヒストン修飾を変化させるいくつかの活性化合物の単離に成功した。このうち特に活性の強い化合物に注目して解析を進め、ヒスト ン修飾の標的特異性や経時変化、アポトーシスとの関係を明らかにした。しかし、この化合物がどのような経路でヒストン修飾に作用しているかは未だに不明で ある。そこで、本研究では、ヒストン修飾制御活性を有する化合物の作用機序ならびに修飾変化の意義の解明に取り組む。
