早稲田大学理工学術院総合研究所とキオクシア株式会社とは、「半導体集積回路設計技術」、「半導体デバイス・製造・プロセス技術」、「情報処理技術」等の分野において、高度情報化社会を支えるために必要なメモリ技術に関する最先端の研究開発に取り組むため組織的連携活動を実施しています。
本連携活動の一環として早大内若手研究者の研究を奨励し、高度情報化社会において多様化する社会的要求への対応を視野に入れた研究を担う人材育成を目的として、「若手奨励研究」を公募し、研究テーマ採択者には研究助成を行うとともに、優れた研究に対しては若手奨励研究奨励賞を授与しています。
このたび、佐藤 峻さん（基幹理工学研究科 材料科学専攻 博士後期課程3年）に2023年度若手奨励研究奨励賞が授与されることになりました。
佐藤さんより、受賞のコメントをいただきました。：
この度はキオクシア若手奨励研究奨励賞をいただき，ありがとうございます．
一から自分で立ち上げた研究課題について，専門分野内外の方から高く評価いただけたこと，非常に嬉しくおもいます．
本受賞を糧に，博士課程終了後もさらなる飛躍を目指して一層精進いたします．
佐藤さんは2022年度に続き、2年続けての受賞となりました。
佐藤さん、おめでとうございます。
