[法学部共催講演会]
商標および意匠に関する諸課題 その２ 「デザイン保護制度の現状と第４次産業革命の影響」(3/11)

法学部共催講演会

商標および意匠に関する諸課題 その２「デザイン保護制度の現状と第４次産業革命の影響」

• 日　時　：　2017年3月11日（土）13時00分～17時30分
• 会　場　：　早稲田大学３号館４０５教室
• 主　催　：　早稲田大学知的財産法制研究所（RCLIP）
• 共　催　：　早稲田大学法学部
• 対　象　：　一般・学生・教職員《参加費無料・要事前予約》
• 詳細・お問い合わせ：　早稲田大学知的財産法制研究所（RCLIP）