“Plate-laminated Waveguides for 350GHz Band Fabricated by Silicon Process”
J. Hirokawa et al., Vietnam-Japan MicroWave, MO4-2, Aug. 2015
ナノ・ライフ創新研究機構 研究院教授 齋藤美紀子，同 次席研究員 加藤邦男ら
キーワード：無電解めっき、電解めっき、表面処理
＊成果のポイント
- 密着性と被覆性を向上させた無電解Ｎｉ系下地膜と電解金めっき膜を用い、Si全面を覆って積層、接合し350 GHz帯アンテナアンテナを作製
- 加工精度を10ミクロンから数ミクロンのSi プロセスにし、特性が改善
- 未開拓未利用領域であるテラヘルツ帯(100GHz程度～1THz程度)の超高速無線通信利用へ
