概要

・日時：2026年10月13日(火)～16日(金)　10:00～17:00
・場所：幕張メッセ
・ブース番号：4H215（ネクストジェネレーションパーク、ホール４）
・全来場者事前登録制。公式Webサイトこちらからお願いいたします。

研究者によるプレゼンテーションを予定

研究者によるプレゼンテーションを予定しています。研究者と直接名刺交換やご質問いただけるまたとない機会となっていますので、是非ご来場ください。それぞれの日時が異なりますのでご注意ください。

・講演者：石井　あゆみ（理工学術院　教授）
・日時：10/13(火) 14:45 ～15:00
・会場：ネクストジェネレーションパーク　ピッチステージ
・タイトル：「近赤外光を活用した次世代エネルギーフィルム―発電・遮熱・紫外線カットを同時に実現する光波長変換技術―」

※予約不要

近赤外光を活用した次世代エネルギーフィルム―発電・遮熱・紫外線カットを同時に実現する光波長変換技術― | セッション詳細 | CEATEC 2026（シーテック）公式サイト

出展予定研究課題

・近赤外光を活用した次世代エネルギー変換フィルム―発電・遮熱・紫外線カットを同時に実現する光波長変換技術―（石井あゆみ　理工学術院教授）

・円偏光を直接検出するフォトダイオード―一次元らせんペロブスカイトによるスピントロニクス技術―（石井あゆみ　理工学術院教授）

・ケージシロキサンに由来する多孔質シリカ材料：分散した金属ナノ粒子の構造的閉じ込めと安定化（吉川 皓陽1、増田 拓海1、疋野 拓也2,3、下嶋 敦1,3、関根 泰1,3）
1早稲田大学 先進理工学研究科　2. 中央大学 理工学部　3. 早稲田大学 各務記念材料科学技術研究所

みなさまのご来場お待ちしております。