Waseda Law School早稲田大学 大学院法務研究科

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[法学部共催講演会]
商標および意匠に関する諸課題 その2 「デザイン保護制度の現状と第4次産業革命の影響」(3/11)

法学部共催講演会

商標および意匠に関する諸課題 その2「デザイン保護制度の現状と第4次産業革命の影響」

  • 日 時 : 2017年3月11日(土)13時00分~17時30分
  • 会 場 : 早稲田大学3号館405教室
  • 主 催 : 早稲田大学知的財産法制研究所(RCLIP)
  • 共 催 : 早稲田大学法学部
  • 対 象 : 一般・学生・教職員《参加費無料・要事前予約》
  • 詳細・お問い合わせ: 早稲田大学知的財産法制研究所(RCLIP)
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