Lab. Tour

研究設備

黒田・下嶋研究室では幅広い研究分野に対応できる装置が利用可能です。
ここに掲載されている以外にも 各務記念材料技術研究所(in-plane XRD、2次元X線、DLSなど)や物性計測センター(溶液および固体NMR、EI-MS、FAB-MS、MALDI-TOF-MS、AFM、単結晶X線構造解析など)、環境保全センター(GC-MSなど)の共通設備などを利用しています。


顕微鏡類


HR-SEM

HITACHI S-5500

一般的な走査型電子顕微鏡です。
in-lens方式で、分解能が高く、数nm程度のメソ孔も観察が可能です。 付属のEDX装置により、元素の定性及びマッピングも行っています。

光学顕微鏡

OLYMPUS BX51

明視野、暗視野、偏光、位相差観察などが可能な光学顕微鏡です。主に、鋳型として用いるリオトロピック液晶の構造分析や、 作製した薄膜のクラックの観察などに用いています。

実験用設備


真空窒素(アルゴン)ライン

空気中では不安定な化合物を用いるのに欠かせない器具です。油拡散ポンプによる高真空ラインも設置されています。窒素ガスおよびアルゴンガスとも繋がっており、真空窒素(アルゴン)置換が可能です。
以上のような様々な構成で計10基が稼働中。

ロータリーエバポレーター

EYELA N-1100(ほか2台)

試料の濃縮および有機溶媒の除去に用います。
全3台所有。

GPC

日本分析工業株式会社(JAI) LC-9104, C-9105, LC-918

高分子などの分子量分布・分子量を求めるだけでなく、みかけの分子サイズの違いによって目的物を分離・精製することができます。オート操作も可能。展開溶媒にはCHCl3やTHFを利用。

オーブン

YAMATO DV 240S(ほか多数)

水熱合成や乾燥、試料の加熱をすることができます。最高温度210℃まで加熱可能。温度分布の制度は±10℃。

超遠心

HITACHI himac CR20F

数万Gの遠心力により、一般の遠心分離機では不可能な、小さい物質の分離ができます。また冷却機能により、系内を低温にした状態で分離を行うことも可能です。

カールフィッシャー水分計

京都電子工業株式会社(KEM) MKC-610

さまざまな物質中の水分を定量するための装置です。禁水系の実験に大変役立ちます。

スピンコーター

押鐘 SC-300

基板真空ポンプで固定して回転させることで、薄膜を作製できます。回転は2段階に分けることができ、各段階において回転数(0~6000 rpm)および回転時間を設定可能です。

電気炉

YAMATO F0310, F0310, F0100

金属の溶解や粉体の焼結、化学分析、その他燃焼試験に使用できます。昇温速度などのプログラムを入力することにより、所望の温度に設定可能です。

低温インキュベーター

FUKUSHIMA FMJ-0531

外部からの影響を遮断することで、槽内の温度を一定に保つことができます。プログラムにより-15℃~50℃の温度環境を、最大8ステップまで設定可能です。

恒温恒湿ブース

温度と湿度を制御可能な小部屋です。再現性の良い実験をするために役立ちます(制御可能範囲:18℃~30℃, 45~75%)。

恒温恒湿槽

エスペック SH-221, ISUZU HP-102

温度と湿度を制御できます(制御可能範囲:-20℃~150℃, 30~95% (SH-211); 20℃~85℃, 30~95%(HP-102))。

超臨界二酸化炭素流体システム

JASCO

ボンベから輸送されてくる低温の二酸化炭素を過熱・加圧すして超臨界状態をつくり、各用途に利用します。同時に有機溶媒などを送ることによって、超臨界二酸化炭素と有機溶媒の混合流体を用いることもできます。

凍結乾燥装置

EYELA FD-5N

加熱乾燥等では分解、形態の変化を生じてしまう試料について、 水の昇華を利用して非破壊的に乾燥させることが出来ます。

クーゲルローア

BUCCI B-585

高沸点の化合物の蒸留・精製や、固体の乾燥を行うことができます。 また、今後は昇華性物質に対するアタッチメントも導入予定です。

マイクロウェーブ反応装置

EYELA MW0-1000

電子レンジと同様のマイクロ波を用いた加熱法により、単なる加熱では進みにくい反応も容易に進行させることができます。

X線回折装置(Cu線源)

RIGAKU RINT-Ultime III

試料にX線を照射し,回折角を測定することによって結晶相の同定を行います。

X線回折装置(Fe線源)

Rigaku Ultima IV

より低角度側のプロファイルの解析に適した装置です。 通常のX線回折に用いられるCuKαよりも波長の長いFeKαを用いることで、 低角度側のピーク位置がCuKαの場合よりも高角度側に検出されます。

分光学測定装置


FT-IR

JASCO FT/IR-6100

赤外領域波長の光の吸収を測定する装置です。化合物中の官能基の同定に用います。近赤外域の観測も可能です。オートサンプルチェンジャー機能付き。

UV-VIS

Jasco V-660

200-900nmの紫外領域および可視領域波長の光の吸収を測定する装置です。積分球に付け替えることで拡散反射法による測定も可能です。

蛍光光度計

HITACHI F-4500

紫外可視領域波長の光を照射した時の化合物の発光現象を測定する装置です。恒温セルホルダーあり。

分光エリプソメーター

HORIBA UVISEL

薄膜の屈折率、膜厚、ポロシティなどの情報が得られます。

ナノ粒子解析装置

HORIBA nano Partica SZ-100S

溶液中の粒子による光散乱を測定する装置です。主に動的光散乱法による、微粒子の粒子径(1 nm ~ 6 μm)測定に用いられます。また、静的光散乱法を用いた分子量測定も可能です。

ゼータ電位・粒径測定システム

OTSUKA ELECTRONICS ELSZ-2

粒子の影響を受ける周囲の荷電を測定することによって、 粒子の表面電荷を間接的に見積もることができます。また、分散状態にある粒子の分散安定性を示す指標にもなります。

物性測定装置


TPD

BEL JAPAN BELCAT-A-SP

昇温により物質に吸着した物質を脱離させ、出てきたガスを分析する事で 薄膜の吸着物質や物質表面や内部状態の解析をする触媒分析装置です。

TG-DTA

RIGAKU TG8120

温度変化中重量減少、発熱吸熱変化の情報を合わせることで、試料中の吸着物質や有機物質の燃焼に関する温度や量についての知見を得るための装置です。

シミュレーション関係


分子シミュレーション用ワークステーション

Wavefunction Inc. Spartan

低分子化合物の構造最適化や各種分光学シミュレーションを行うためのワークステーションです。