■日本応用磁気学会 学会賞（2006.9.12 島根大学）

この賞は、磁気記録のみならず磁気に関する研究を行う日本応用磁気学会での最高位の賞で、本分野での最も優れた研究者に授与されるものです。授賞式は、2006年9月12日、島根大学での第30回日本応用磁気学会において行われました。

＜受賞理由＞
「電気化学的手法による高機能磁性薄膜の開発と磁気記録デバイスへの応用」と言う内容で、応用磁気分野で「原子・分子界面制御」という基本 概念に基づいた材料開発を転回し （1）無電解析出法による高密度磁気記録用薄膜材料の研究、（2）電解・無電解析出法による高飽和磁束密度軟磁性薄膜材料の研究、さらに（3）スパッタ法 による高保磁力・高磁気異方性薄膜材料の研究、などの卓越した業績を挙げている。

電気化学分野で、国際的に顕著な業績を上げた科学者に与えられる称号です。

＜受賞理由＞
「Fabrication and Characterization of High Performance Thin Films for Electronic Devices」という内容で、顕著な電気化学分野の科学者としての顕著な活躍に対して与えられている。

表面技術分野で、実用化した新規にすぐれた技術に対して与えられる賞です。

＜受賞理由＞
「高密度用超小型磁気ヘッドの開発研究と実用化」という実用化とその基になった学問的な評価に対して、特に優れた開発であるとて、早稲田大学、日本電気（株）、（株）富士通の三社に対して与えられている。